在3nm及以下先进制程芯片中，高纯钨作为填充材料的需求激增，虽然总量不大，但极高的附加值和技术壁垒，进一步放大了钨的战略属性。
[1] K. Lemström, J. Tarhio & T. Takala: “Color Dithering with n-Best Algorithm” (1996). ↑，这一点在safew官方版本下载中也有详细论述
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